Silikon levha temizleme yöntemleri nelerdir?

Silikon plakalardaki kirliliği gidermek için iki yöntem vardır: fiziksel temizleme ve kimyasal temizleme.
1. Kimyasal temizlik, atom ve iyonların gözle görülmeyen kirliliğini ortadan kaldırmaktır. Solvent ekstraksiyonu, dekapaj (sülfürik asit, nitrik asit, kral suyu, çeşitli karışık asitler vb.) ve plazma yöntemi gibi birçok yöntem vardır. Bunlar arasında hidrojen peroksit sistemi temizleme yöntemi iyi etkiye sahiptir ve çevre kirliliği azdır. Genel yöntem, silikon levhayı H2SO4:H2O2=5:1 veya 4:1 bileşim oranına sahip bir asit çözeltisiyle temizlemektir. Temizleme solüsyonunun güçlü oksitleyici özelliği organik maddeleri ayrıştırabilir ve ortadan kaldırabilir; Ultra saf suyla yıkadıktan sonra, H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1 veya 5:1:1 veya 7:2:1 bileşim oranına sahip bir alkali kullanın. H2O2'nin oksidasyonu ve kompleksleşmesi nedeniyle NH4OH, birçok metal iyonu kararlı çözünebilir kompleksler oluşturur ve suda çözünür; daha sonra H2O2'nin oksidasyonu, hidroklorik asidin çözünmesi ve klorür iyonlarının kompleksleşmesi nedeniyle H2O:H2O2:HCL=7:2:1 veya 5 : 2:1 oranında asidik temizleme solüsyonu bileşim oranı kullanın, Birçok metal, temizleme amacına ulaşmak için suda çözünebilen karmaşık iyonlar üretir.
Radyotracer atom analizi ve kütle spektrometri analizi, hidrojen peroksit sisteminin silikon levhalar üzerinde en iyi temizleme etkisine sahip olduğunu ve aynı zamanda kullanılan tüm kimyasal reaktifler H2O2, NH4OH ve HCl'nin tamamen uçucu hale gelebildiğini gösterdi. Silikon levhayı H2SO4 ve H2O2 ile temizlerken, silikon levhanın yüzeyinde santimetrekare başına yaklaşık 2x1010 kükürt atomu kalacaktır ve bu, ikinci asidik temizleme çözeltisiyle tamamen giderilebilir. Silikon levhanın H2O2 sistemi ile temizlenmesi kalıntı bırakmaz, daha az zararlıdır ve aynı zamanda işçi sağlığına ve çevrenin korunmasına da faydalıdır. Silikon levha her adımda temizleme solüsyonu ile temizlendikten sonra ultra saf su ile iyice durulanmalıdır.
2. Fiziksel temizliğin üç yöntemi vardır.
(1) Fırçalama veya fırçalama: Parçacık kirliliğini ve tabakaya yapışan filmin çoğunu giderebilir.
(2) Yüksek basınçlı temizleme: Levhanın yüzeyine sıvı püskürtülür ve nozulun basıncı birkaç yüz atmosfer kadar yüksektir. Yüksek basınçlı temizlik püskürtmeye dayanır ve filmin çizilmesi ve hasar görmesi kolay değildir. Bununla birlikte, yüksek basınçlı püskürtme statik elektrik üretecektir ve bu durum, nozul ile film arasındaki mesafenin ve açının ayarlanmasıyla veya antistatik maddelerin eklenmesiyle önlenebilir.
(3) Ultrasonik temizleme: Çözeltiye ultrasonik ses enerjisi verilir ve film üzerindeki kirlilik kavitasyon yoluyla yıkanır. Ancak desenli çarşaflardan 1 mikrondan küçük parçacıkların uzaklaştırılması daha zordur. Frekansı ultra yüksek frekans bandına yükseltin ve temizleme etkisi daha iyidir.